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Desktop Pro薄膜沉積-磁控濺射

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產(chǎn)品型號(hào)Desktop Pro

品       牌

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所  在  地上海

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所在地區(qū)：

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

詳細(xì)介紹

如果實(shí)驗(yàn)室空間是您關(guān)心的問(wèn)題，緊湊、高真空Desktop Pro濺射系統(tǒng)生產(chǎn)能力大，而占用的桌面空間不到36英寸(914mm)。Desktop Pro可以提供共聚焦濺射以及磁性和/或介電材料的沉積。

Desktop Pro以共焦結(jié)構(gòu)支持一個(gè)或兩個(gè)陰極，在4英寸直徑上提供高薄膜均勻性。其能夠在不到30分鐘的時(shí)間內(nèi)抽氣至高真空(10-6托范圍)，這是需要快速轉(zhuǎn)換的多用戶環(huán)境中解決方案。



用途：

濺射 材料研究 產(chǎn)品質(zhì)量控制和質(zhì)量保證

半導(dǎo)體故障分析 納米技術(shù) 化合物半導(dǎo)體


優(yōu)勢(shì)：

這一直流和射頻濺射系統(tǒng)將提高您的研究生產(chǎn)力，提供一致、可重復(fù)的性能，同時(shí)，可大幅節(jié)約測(cè)試環(huán)境的空間。


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