進(jìn)口無掩膜光刻系統(tǒng)公司 返回列表頁

Nanoscribe工業(yè)級(jí)高速灰度光刻微納打印系統(tǒng) - Quantum X

德國Nanoscribe公司在2019慕尼黑光博會(huì)展 LASER World of Photonics上發(fā)布了全新工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng) Quantum X ，并榮獲創(chuàng)新獎(jiǎng)。該系統(tǒng)是世界first基于雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL®）的精密加工微納米打印系統(tǒng)，可應(yīng)用于折射和衍射微光學(xué)。該系統(tǒng)的面世代表著Nanoscribe已進(jìn)軍現(xiàn)代微加工工業(yè)領(lǐng)域。具有全自動(dòng)化系統(tǒng)的Quantum X無論從外形或者使用體驗(yàn)上都更符合現(xiàn)代工業(yè)需求。

Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng)技術(shù)要點(diǎn)

這項(xiàng)突破性的技術(shù)將微納增材制造和超高速體素大小調(diào)節(jié)結(jié)合在一起：雙光子灰度光刻(2GL)是一種具有超高速、超精確的可以滿足自由形態(tài)的微加工技術(shù)，同時(shí)又不影響速度和精度。

Quantum X通過實(shí)時(shí)調(diào)制激光功率的技術(shù)在掃描平面上控制體素的大小。通過這種方式，具有復(fù)雜幾何形狀的結(jié)構(gòu)可以被制造出來，同一物體中跨尺度的細(xì)節(jié)能夠?qū)崿F(xiàn)一步打印。無論是離散的，還是連續(xù)的復(fù)雜結(jié)構(gòu)均可以在可達(dá)6英寸的晶圓片基板上精細(xì)打印，而不需要額外的光刻步驟或掩模制造。

Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng) - 多種*智能化解決方案：
·配備自動(dòng)識(shí)別匹配不同物鏡，樣品架以及樹脂的功能，有助于樣品制備和硬件配置之間的切換，從而加快整個(gè)工作流程。

·配備從始至終的智能軟件向?qū)Чδ?，以簡化從初?zhǔn)備到創(chuàng)建打印作業(yè)的整個(gè)流程。

·配備三個(gè)實(shí)時(shí)監(jiān)控?cái)z像頭可同時(shí)監(jiān)管打印作業(yè)并支持直觀操作。現(xiàn)在用戶可以直接在內(nèi)置觸控屏上隨時(shí)檢查作業(yè)狀態(tài)，控制打印過程并可隨時(shí)顯示和調(diào)整打印效果。

技術(shù)參數(shù)
產(chǎn)地：德國全進(jìn)口

打印技術(shù)：雙光子灰度光刻 （2GL)

三維橫向特征尺度：160nm

**分辨率：400nm

小表面粗糙度：≤10nm

激光掃描速度：≤250mm/s