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3英寸納米壓印機(jī) NIL75

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產(chǎn)品型號(hào)NIL75

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

詳細(xì)介紹

納米壓印技術(shù)突破了傳統(tǒng)光刻在特征尺寸減小過(guò)程中的難題,具有分辨率高、低成本、高產(chǎn)率的特點(diǎn)。自1995年提出以來(lái),納米壓印已經(jīng)經(jīng)過(guò)了14年的發(fā)展,演變出了多種壓印技術(shù),廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、mems、生物芯片、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域。被譽(yù)為改變?nèi)祟?lèi)的技術(shù)之一。
NIL壓印機(jī)的基本思想是通過(guò)模版,將圖形轉(zhuǎn)移到相應(yīng)的襯底上,轉(zhuǎn)移的媒介通常是一層很薄的聚合物膜,通過(guò)熱壓或者輻照等方法使其結(jié)構(gòu)硬化從而保留下轉(zhuǎn)移的圖形。整個(gè)過(guò)程包括壓印和圖形轉(zhuǎn)移兩個(gè)過(guò)程。根據(jù)壓印方法的不同,NIL主要可分為熱塑(Hot embossing)、紫外固化UV和微接觸(Micro contact printing, uCP)三種光刻技術(shù)。

二、 功能

l 主要功能

納米壓印機(jī)的主要功能是將圖形轉(zhuǎn)移到相應(yīng)的襯底上,轉(zhuǎn)移的媒介通常是一層很薄的聚合物膜,通過(guò)熱壓或者輻照等方法使其結(jié)構(gòu)硬化從而保留下轉(zhuǎn)移的圖形。壓印技術(shù)主要分為以下兩種:

熱壓:首先在襯底上涂上一層薄層熱塑形高分子材料(如PMMA)。升溫并達(dá)到此熱塑性材料的玻璃化溫度Tg(Glass transistion temperature)之上。熱塑性材料在高彈態(tài)下,將具有納米尺度的模具壓在上面,并施加適當(dāng)?shù)膲毫Γ瑹崴苄圆牧蠒?huì)填充模具中的空腔,模壓過(guò)程結(jié)束后,溫度降低使熱塑性材料固化,從而得到與模具的重合的圖形。隨后移去模具,并進(jìn)行各相異性刻蝕去除殘留的聚合物。接下來(lái)進(jìn)行圖形轉(zhuǎn)移。圖形轉(zhuǎn)移可以采用刻蝕或者剝離的方法??涛g技術(shù)以熱塑性材料為掩膜,對(duì)其下面的襯底進(jìn)行各向異性刻蝕,從而得到相應(yīng)的圖形。剝離工藝先在表面鍍一層金屬,然后用有機(jī)溶劑溶解掉聚合物,隨之熱塑性材料上的金屬也將被剝離,從而在襯底上有金屬作為掩膜,隨后再進(jìn)行刻蝕得到圖形。

紫外壓印:為了改善熱壓印中熱變形的缺點(diǎn),特克薩斯大學(xué)的C. G. willson和S. v. Sreenivasan開(kāi)發(fā)出步進(jìn)-閃光壓印(Step- Flash Imprint Lithography),這種工藝中采用對(duì)紫外透明的石英玻璃(硬模)或PDMS(軟模),光阻膠采用低粘度,光固化的單體溶液。先將低粘度的單體溶液滴在要壓印的襯底上,結(jié)合微電子工藝,薄膜的淀積可以采用旋膠覆蓋的方法,用很低的壓力將模版壓到晶圓上,使液態(tài)分散開(kāi)并填充模版中的空腔。透過(guò)模具的紫外曝光促使壓印區(qū)域的聚合物發(fā)生聚合和固化成型。最后刻蝕殘留層和進(jìn)行圖形轉(zhuǎn)移,得到高深寬比的結(jié)構(gòu)。最后的脫模和圖形轉(zhuǎn)移過(guò)程同熱壓工藝類(lèi)似。

l 技術(shù)特點(diǎn)

機(jī)器名稱(chēng)

紫外/熱壓式納米壓印機(jī)(氣壓式)

型號(hào)

NIL75

尺寸規(guī)格

400mm(L)*500mm(W)*850mm(G)

重量

90 KG

壓印樣品尺寸

3英寸

固化方式

熱固化/紫外固化

電源電壓

220V,50Hz

總功率

1.0KW

真空系統(tǒng):

極限真空度

-95kPa

高壓系統(tǒng):

壓強(qiáng)

0.75MPa

溫度控制系統(tǒng):

加熱方式

220V,200W電熱絲

冷卻方式

流動(dòng)空氣冷卻

溫控范圍

室溫-200℃

控制系統(tǒng)

PLC及觸摸屏

工作環(huán)境

超凈間、溫度0-38℃

機(jī)器噪聲

50dB

機(jī)器表面外觀

噴漆

l 技術(shù)能力

該設(shè)備的發(fā)明人2001年至 2003 年,在納米壓印技術(shù)發(fā)明人、 美國(guó)普林斯頓大學(xué) StephenY.Chou 教授的納米結(jié)構(gòu)實(shí)驗(yàn)室作為研究助理進(jìn)行了為期 3 年的研究工作,發(fā)展了紫外光固化納米壓印工藝與材料,對(duì)納米壓印技術(shù)的發(fā)展做出了重要的貢獻(xiàn)。2004 年加入材料科學(xué)與工程系后繼續(xù)圍繞納米微加工技術(shù)與納米壓印技術(shù)開(kāi)展研究工作,研發(fā)了數(shù)種新型納米壓印材料,發(fā)展了新型高分子壓印模板,提出了曲面納 米壓印技術(shù);利用 863 課題“紫外光固化和熱壓兩用納米壓印設(shè)備的研制與應(yīng)用"項(xiàng)目的支持,研制成功具有紫外光固化和熱壓功能兩用納米壓印設(shè)備,現(xiàn)已成為產(chǎn)品,并被南京大學(xué)、北京航空航天大學(xué)、國(guó)防科技大學(xué)、黑龍江大學(xué)、中科院深圳研究院等多家高校和科研機(jī)構(gòu)所采用,形成了具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的納米壓印核心技術(shù),申請(qǐng)和獲得了多項(xiàng)中國(guó)專(zhuān)用與美國(guó)專(zhuān)用,技術(shù)水準(zhǔn)與當(dāng)前國(guó)際該領(lǐng)域水平同步。


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